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UNIPOL-1203化學(xué)機(jī)械磨拋機(jī)，化學(xué)拋光機(jī)適用于CMP平坦化和平滑化工藝技術(shù)， 整機(jī)研磨部分采用防腐材料，耐化學(xué)腐蝕，配置自動(dòng)滴料器和精密磨拋控制儀，全自動(dòng)觸摸屏面板，從加工性能和速度上同時(shí)滿足晶圓等面型加工的需求。

UNIPOL-1204自動(dòng)精密磨片機(jī)，硬組織磨片機(jī)適合醫(yī)學(xué)硬組織切片的研磨，尤其適用于研磨帶有嵌入物（金屬、陶瓷、塑料、礦物質(zhì)等）的醫(yī)學(xué)組織切片研磨拋光。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：UNIPOL-160D雙面研磨拋光機(jī),雙面拋光機(jī)主要用于石英晶片、藍(lán)寶石、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、金屬等片狀材料的雙面精密研磨拋光。本機(jī)采用渦輪蝸桿減速機(jī)為傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過(guò)齒輪組實(shí)現(xiàn)上、中、下三軸不同速度、不同方向的轉(zhuǎn)動(dòng)，使上、下研磨拋光盤(pán)和中間太陽(yáng)輪產(chǎn)生速度差以及相對(duì)運(yùn)動(dòng)，而樣件置于太陽(yáng)輪驅(qū)動(dòng)的載樣行星齒輪內(nèi)孔中，從而對(duì)其進(jìn)行雙面研磨拋光。

UNIPOL-1000S自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)可用于研磨拋光金屬、晶體、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等。本機(jī)設(shè)有Φ150mm的載物盤(pán)和Φ250mm的研磨拋光盤(pán)，可研磨拋光直徑或?qū)蔷€≤140mm的圓或矩形的平面，更便于多個(gè)樣件的同時(shí)制備。若配用適當(dāng)?shù)母郊勺詣?dòng)批量制備高質(zhì)量的平面和立體產(chǎn)品。

UNIPOL-1000D雙盤(pán)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。

UNIPOL-1200S自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)特別設(shè)有機(jī)械手磨拋工位，使本機(jī)既可以在高壓力下進(jìn)行超硬材料的磨拋，也可以在機(jī)械手作用下進(jìn)行易解離、易破碎材料的磨拋。