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VTC-200-4P噴霧旋轉涂覆機,勻膠機、顯影機、甩膠機、旋涂儀、spin coater主要用于半導體工藝、制版工藝過程中圖形的顯影及表面涂覆工藝，是一款上蓋可以加熱的勻膠機、顯影機，在勻膠或顯影過程結束后使用加熱功能使膠體薄膜中的溶劑繼續(xù)蒸發(fā)到含量低。工作過程中顯影液或膠體以霧狀噴到樣片上，使溶液在樣片表面均勻分布，有利于薄膜和顯影過程的順利進行。本機電機部分、溫度控制部分、注液部分

VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空，使樣品在*真空的狀態(tài)下進行涂膜，適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數(shù)不同，使設備緩慢提升速

VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上，該設備利用兩段程序控制速度。首先開動涂膜機將設備轉數(shù)設置在一定的轉數(shù)范圍內，在此轉數(shù)范圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠，注膠結束后涂膜機會提升轉數(shù)至第二段的極限轉數(shù)進行勻膠，在勻膠之前要對勻膠