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PCE-8等離子清洗機是一款較大型的清洗機，等離子腔體為 Φ8.5 “×12“的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等），對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設備。

產品簡介：PCE-6V小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現對樣品的離子蝕刻。此外，其可在特定條件下

PCE-66紫外臭氧清洗機（帶攪拌機構）是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內置加熱管，可加熱基片，加熱溫度上限150℃，PID方式控溫，可設置30段升降溫程序。帶有攪拌功能，用作氧化物包括干法電極電池正極材料的表面處理。

PCE-66紫外臭氧清洗機是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。內置加熱管，可加熱基片，最高加熱溫度150℃，PID方式控溫，可設置30段升降溫程序。

PCE-22紫外臭氧清洗機提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。

CE-600、800自動清洗機是專門用于晶圓、QFN、玻璃、基板、手機模組和陶瓷等切割后的清洗設備。此系列為二流體清洗方案，采用可編輯控制器＋全彩色觸摸屏為操作系統，令設備性能更加穩定、操作便捷。采用特殊內部結構設計能均勻混合，產生細微液滴尺寸的噴霧或粗液滴噴霧。